会议内容
鸿之微科技（上海）股份有限公司致力于材料设计软件开发、集成电路工艺参数提取软件及集成电路器件设计软件的开发和应用。将于2018年展开软件应用培训的系列课程，包括Nanodcal、RESCU、MOMAP等材料设计软件使用；科研应用文献精解；热门领域专题应用等多方面的培训。欢迎各位学术界的老师和同学、产业界的从业同行关注和参与！
RESCU（Real space Electronic Structure CalcUlator），由于其新颖的算法和超高的并行效率，使其在大体系下有着很抢眼的表现，在使用相同资源及不牺牲精度的情况下能够计算更大体系的电子结构；同时RESCU适用于各类计算资源，从笔记本电脑、桌面单机、到16核、64核、256核、到更大的超算、包括用GPU加速等等，可以用来计算一千、数千、上万、乃至更大体系的电子结构性质。RESCU是解决超大体系KS-DFT问题的里程碑式的新方法，正在被应用于金属、半导体、绝缘体、液体、DNA、1维、2维、3维、表面、分子、磁性、非磁性、杂质、固体等等不同系统的KS-DFT计算。
石墨烯量子点 (Graphene quantum dot) 是准零维的纳米材料，其内部电子在各方向上的运动都受到局限，所以量子局限效应特别显着，具有许多独特的性质。例如，石墨烯量子点（GQDs）一直被认为是一种潜在的表面增强拉曼光谱（SERS）衬底。然而，由于其合成质量问题，石墨烯量子点的应用一直受限。在本次培训将要带大家解读的文章中，作者应用了一种准平衡等离子体增强化学气相沉积方法，成功的在 SiO2/Si 基底上制备出最小达到2 nm的超净高纯的GQDs；并且通过使用RESCU软件计算了其电子结构性质，揭示了不同尺寸超净高纯的GQDs拉曼增强效应的内部机理。
在实验上制备范德瓦尔斯异质结的过程中，由于存在于两层之间的较小的晶格失配和相对转动，会在范德瓦尔斯异质结中引入摩尔条纹。并且摩尔条纹也会对范德瓦尔斯异质结的各种物理性质造成影响。2018年三月，《Nature》上连续刊登的两篇二维扭转石墨烯的文章——“魔角”石墨烯，则开启了二维Moiré pattern结构调控电子态的新篇章。
本次培训特邀鸿之微高级应用工程师阮璐风及具有丰富二维Moiré pattern结构研究经验的康鹏博士；培训期间阮璐风工程师将为大家系统的介绍RESCU的原理及使用，康鹏博士则将从自己的工作出发带大家进入二维Moiré pattern的世界；同时进行RESCU软件应用培训和文献精解。通过RESCU软件重述整个科研过程，以期为RESCU软件学习者提供系统全面、清晰明了的软件学习和应用指导。
培训内容
本期培训主要内容如下：
培训地点：上海市浦东新区金海路1000号12号楼东区（ 021-50550302）
培训时间： 2019年1月11日~2019年1月13日
报名费用：3000元/人 备注：包含资料费、培训费、午餐；交通和食宿等费用自理。
联 系 人：柳傲蕾 联系方式：17717399103 Email：liuaolei@hzwtech.com
培训说明：为保证培训质量，本次培训限额15人，报满即止！
