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材料设计,器件模拟计算领域的引领者

【关注】从微观到宏观:鸿之微自主知识产权软件产品亮相美国硅谷

hzwtech | 鸿之微科技 | 2019-10-31

美西时间10月19日,华美半导体协会(CASPA)在位于美国加州Newark的Double Tree 希尔顿酒店举办会议,主题为“人工智能:从芯片到软件(From Silicon to Software)”,年会邀请Intel,NXP,Facebook,Stanford University等业界先锋,共同对硅谷最火热、最具潜力的话题“人工智能”展开讨论,鸿之微展出了具有自主知识产权的Atomistic TCAD软件产品和人工智能在材料筛选方面的解决方案,获得了与会专家的认可。

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超过800多名行业精英参加了此次会议,与会专家认为近年来硅谷硬件科技的发展已经渐渐转换为由软件指导,硅谷也从原来的Sillicon Valley转型成为了软件公司的天下。鸿之微自主知识产权的软件产品和方案,针对半导体行业发展的痛点与传统TCAD面临的困境,已被成功应用到集成电路材料设计、器件设计与工艺仿真领域,实现了原子尺度的全覆盖,助力集成电路先进制造。

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附软件介绍:

Nanodcal是一款基于非平衡态格林函数-密度泛函理论(NEGF-DFT)的从头计算软件,主要用于模拟器件材料中的非线性、非平衡的量子输运过程,是目前国内唯一一款拥有自主知识产权的基于第一性原理的输运软件。可预测材料的电流-电压特性,电子透射几率等众多输运性质。迄今为止,Nanodcal已成功应用于1维、2维、3维材料物性、分子电子器件、自旋电子器件、光电流器件、半导体电子器件设计等重要研究课题中,并将逐步推广到更广阔的电子输运性质研究的领域。


网址链接:

http://www.hzwtech.com/software-prosubsub/38.html

 

Nanoskim是基于Slater-Koster紧束缚势场的量子输运仿真软件,可以从原子层级来构建纳米器件。在非平衡条件下,通过自洽求解非平衡格林函数(Non-equilibrium Green’s function, NEGF)和Poisson方程,得到纳米器件的电子密度和静电势。从而可以充分考虑量子力学效应(如源漏隧穿效应、量子受限效应),以及具体的原子细节(如截面形状、杂质的位置)等。可以计算能带、态密度、弹道输运以及可实现最新的3-5nm制程节点的GAA环栅纳米线器件电输运计算等。


网址链接:

http://www.hzwtech.com/software-prosubsub/157.html

 

FIRST是一款用AI来加速材料设计和筛选的软件,能够进行材料性能预测, 智能检索数据库, 材料数据挖掘等任务。设计目的是精准缩小候选材料的范围, 降低新材料的研发成本, 原则上适用于有机小分子和无机晶体类型材料。


网址链接:

http://yitiji.hzwtech.com/hzwhardware/ai-material-software/


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