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更新说明（2016-09-30）

9.30版本修改的地方主要有：

1   支持多端口（多于2端口）器件结构搭建和计算文件生成。

2   支持XSD（Materials Studio专用）文件的导入。

3   支持POSCAR（VASP专用）文件的导入。

4   支持生成VASP计算文件。

5   支持hzw结构文件拖拽打开。

6   支持重新命名用户导入的与Project中相同名称的结构文件。

7   支持记住上次用户导入目录的地址。

8   hpf文件和Device Studio软件关联。

9   修复license过期的问题。

10  增加键的非实时刷新功能。

11  增加拼接Device时直接从Project选文件的功能。

12  增加主窗口背景颜色修改。

13  增加原子显示精度实时刷新。

14  优化测量结果的显示。

15  增加高对称点的选择（在生成Band Structure计算文件和VASP计算文件的部分）。

16  修改Job Manager初始显示方式。

17  修改鼠标放到原子上hint的提示。

18  修改失去焦点时，Properties栏的数据显示。

更新说明（2016-10-20）

修复了二端口体系生成scf.input文件的bug，同时优化了生成多端口器件的功能。